本文由 資源共享網(wǎng) – ziyuan 發(fā)布,轉(zhuǎn)載請注明出處,如有問題請聯(lián)系我們![免費]長江存儲技術(shù)授權(quán)與專利突破引領(lǐng)行業(yè)變革
收藏1. 歷史性技術(shù)授權(quán):向三星輸出關(guān)鍵專利
2025年2月,長江存儲與三星電子達成專利許可協(xié)議,授權(quán)其“混合鍵合”技術(shù)用于三星下一代V10閃存芯片開發(fā)。這是三星首次從中國存儲芯片企業(yè)獲得專利授權(quán),標(biāo)志著長江存儲在3D NAND領(lǐng)域的核心技術(shù)已具備國際競爭力。該技術(shù)通過晶圓直接鍵合,省去傳統(tǒng)凸塊連接,顯著提升存儲性能和散熱效率,助力三星實現(xiàn)420-430層堆疊芯片的量產(chǎn)。
值得注意的是,長江存儲自研的“Xtacking”架構(gòu)技術(shù)(采用晶圓鍵合與垂直互聯(lián))已迭代至4.x版本,成功實現(xiàn)270層NAND芯片商業(yè)化,其存儲密度達到業(yè)界領(lǐng)先的20Gb/mm2,遠超韓國SK海力士的321層產(chǎn)品。
2. 技術(shù)突破:多項專利夯實行業(yè)地位
2025年1月,長江存儲密集公開多項創(chuàng)新專利,覆蓋半導(dǎo)體器件設(shè)計、存儲模式優(yōu)化及制造工藝:
- 漏電流控制技術(shù):新專利通過多層堆疊結(jié)構(gòu)、絕緣隔斷部設(shè)計,有效阻斷導(dǎo)電層與溝道間的電流泄漏,提升器件可靠性和能效,為高性能芯片開發(fā)提供基礎(chǔ)。
- 多存儲模式切換技術(shù):支持存儲器在不同密度模式下靈活編程與擦除,適應(yīng)云計算、AI等場景的多樣化需求,降低能耗并提升數(shù)據(jù)處理效率。
- 快速編程方法:通過并行電壓施加技術(shù),大幅縮短編程時間,加速AI應(yīng)用(如實時圖像生成、大模型訓(xùn)練)的數(shù)據(jù)處理速度。
- 三維結(jié)構(gòu)創(chuàng)新:專利中提出的柵隔離結(jié)構(gòu)與溝道方向調(diào)配設(shè)計,優(yōu)化了存儲單元的空間布局,推動存儲密度與性能雙提升。
3. 市場與行業(yè)影響:從追趕者到規(guī)則制定者
- 市場份額躍升:2024年第四季度,長江存儲的3D NAND芯片全球出貨量占比突破35%,直接沖擊三星、SK海力士主導(dǎo)的市場格局。其產(chǎn)品憑借Xtacking技術(shù)的成本與性能優(yōu)勢,拉低全球存儲芯片均價,促使韓國企業(yè)加速技術(shù)轉(zhuǎn)型。
- 專利防御與訴訟:長江存儲積極構(gòu)建專利壁壘,2023年對美國美光發(fā)起多起專利訴訟,并成功抵御其20項專利無效挑戰(zhàn),展現(xiàn)技術(shù)自信與法律攻防能力。
- 產(chǎn)能擴張計劃:為應(yīng)對市場需求,長江存儲正加速產(chǎn)能建設(shè),目標(biāo)改寫全球存儲供應(yīng)鏈格局,減少對進口設(shè)備的依賴。
4. 未來挑戰(zhàn)與戰(zhàn)略布局
- 技術(shù)持續(xù)迭代:隨著存儲層數(shù)向400層邁進,如何在提升堆疊效率的同時保證良率,成為行業(yè)競爭焦點。長江存儲需進一步優(yōu)化Xtacking架構(gòu),鞏固技術(shù)領(lǐng)先優(yōu)勢。
- 產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同:中國半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化率已達70%(如中微刻蝕機、北方華創(chuàng)沉積設(shè)備),但高端光刻機等環(huán)節(jié)仍需突破,全產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同將成為關(guān)鍵。
- 國際競爭加劇:三星、SK海力士正加快混合鍵合技術(shù)研發(fā),長江存儲需通過技術(shù)授權(quán)、生態(tài)合作擴大影響力,同時防范專利糾紛風(fēng)險。
結(jié)語
長江存儲憑借自主創(chuàng)新,從技術(shù)追隨者蛻變?yōu)樾袠I(yè)引領(lǐng)者,其專利授權(quán)三星事件不僅是技術(shù)實力的體現(xiàn),更折射出全球半導(dǎo)體權(quán)力格局的重構(gòu)。未來,隨著產(chǎn)能釋放與技術(shù)深化,長江存儲有望在AI、物聯(lián)網(wǎng)等新興領(lǐng)域推動存儲技術(shù)的范式變革,助力中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)實現(xiàn)從“國產(chǎn)替代”到“全球主導(dǎo)”的跨越。

